1977 г. СССР
г. Минск, Завод «Планар»
Установка предназначена для точного и многократного перенесения изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину при фотолитографических процессах изготовления полупроводниковых приборов и интегральных схем методами контактного экспонирования и экспонирования с зазором.
Технические характеристики:
- Диаметр полупроводниковых пластин 60/76/100 мм
- Размеры фотошаблонов 76х76, 102х102, 127х127 мм
- Толщина слоя фоторезиста 0,6-0,8 мкм
- Размер минимального элемента изображения
а) при контактном экспонировании 2 мкм
б) при экспонировании с зазором 4 мкм - Производительность, не менее 160 пластин в час (без учета времени совмещения,
время экспонирования 5 с) - Масса установки 375 кг
На архивных снимках представлены участки фотолитографии объединения «Светлана», в цехе 75 и в здании ЛКТБ.
Устройство установки
Механизм перемещения кассет (МПК), именно так называется устройство последовательно помещающее пластины из кассеты на подающую дорожку и пластины с приемной дорожки в другую кассету. МПК управляется двигателем постоянного тока ДПМ, напряжение питания 25 В.
Для управления предусмотрены 3 фотодатчика ФД: Кассета внизу, Кассета вверху, Шаг кассеты. После нажатия кнопки «Пуск» происходит движение вниз подающей кассеты (а приемной вверх).
Двигатель останавливается при совпадении условий:
- ФД «Пластина на подающей дорожке»
- ФД «Шаг кассеты»
